进入先进制程产线!国产半导体设备拓荆科技上市中芯国际为其最大

发布时间: 2022-05-15? 来源:本站原创 作者:admin

  芯东西 4 月 20 日报道,刚刚,薄膜沉积设备供应商拓荆科技登陆科创板,发行价 71.88 元 / 股。

  拓荆科技开盘价为 95.01 元 / 股。开盘后,拓荆科技股价最高涨至 104 元 / 股,涨幅达 44%,之后有所回落。截至芯东西成文,拓荆科技报 97 元 / 股,涨幅 35%,总市值 122 亿元。

  薄膜沉积是芯片制造的核心工艺环节,晶圆厂通过这种技术制造芯片衬底上的微米或纳米级薄膜材料层。薄膜沉积设备和光刻机、刻蚀机共同构成芯片制造的三大主设备。目前这一市场基本被应用材料、泛林半导体、东京电子等国际龙头占据,是国产半导体的“卡脖子”环节。

  拓荆科技主要产品包括等离子体增强化学气相沉积(PECVD)设备、原子层沉积(ALD)设备和次常压化学气相沉积(SACVD)设备三个系列,已广泛应用于国内晶圆厂 14nm 及以上制程产线nm 及以下制程产品的验证测试。

  拓荆科技是国产薄膜沉积设备龙头企业,是国内唯一一家产业化应用的集成电路 PECVD、SACVD 设备厂商,曾三次被中国半导体行业协会评为“中国半导体设备五强企业”。其产品已应用于中芯国际、华虹集团、长江存储、长鑫存储、厦门联芯、燕东微电子等国内主流晶圆厂,打破了国际厂商对国内市场的垄断。

  由于股权较为分散,拓荆科技无控股股东或实际控制人。本次 IPO,拓荆科技计划募资 10 亿元,将分别用于“高端半导体设备扩产”、“先进半导体设备的技术研发与改进”、“ALD 设备研发与产业化”与“补充流动资金”四个项目。

  拓荆科技成立于 2010 年 11 月,由中国科学院沈阳科学仪器股份有限公司和孙丽杰分别出资 600 万元和 400 万元,持有拓荆有限 60% 和 40% 的股权。

  拓荆科技 2010 年成立后,2011 年其首台 12 英寸 PECVD 设备就出厂到中芯国际进行验证。2013 年,拓荆科技的 PECVD 设备 PF-300T 通过中芯国际产品线测试,并于次年收获中芯国际首个量产机台 PF-300T 的订单。

  2014 年 1 月,孙丽杰将其持有的拓荆有限 40% 股权转让给姜谦、凌复华、张孝勇、刘忆军、张先智等五名外籍专家,以及沈阳盛腾、沈阳盛旺、沈阳盛全、沈阳盛龙四个员工持股平台。

  截至拓荆科技上市,姜谦、凌复华、张孝勇、刘忆军、张先智等人为拓荆科技的前十大自然人股东,不过刘忆军、凌复华两人已不在拓荆科技任职,张先智为拓荆科技顾问。姜谦和张孝勇分别为拓荆科技的董事和副总经理,也是拓荆科技 7 位核心技术人员中的 2 人。

  2021 年 7 月 12 日,拓荆科技申报科创板 IPO 获受理。截至今天拓荆科技上市,共历时 9 个月。

  ▲ 拓荆科技 2018 年至 2021 年 1-9 月各期营收、净利润变化

  具体来说,拓荆科技的主要产品有等离子体增强化学气相沉积(PECVD)设备、原子层沉积(ALD)设备和次常压化学气相沉积(SACVD)设备三个系列。其中 PECVD 设备是拓荆科技的核心产品,也是芯片制造薄膜沉积工艺中运用最广泛的设备种类。

  招股书披露,拓荆科技已于 2018 年向某国际领先晶圆厂发货了一台 PECVD 设备用于先进逻辑芯片制造研发产线 年,该晶圆厂向拓荆科技增订一台设备,用于其先进制程试产线。

  报告期内,拓荆科技的 PECVD 设备收入占比均超过 75%,在 2019 年和 2020 年该类产品的收入占总营收比例分别达 100% 和 97.55%。

  作为半导体制造设备厂商,拓荆科技的主要客户有中芯国际、长江存储、华虹集团、晶合集成、北京燕东微、粤芯半导体等国内主要晶圆厂。

  ▲ 拓荆科技 2018 年-2021 年前 9 个月前五大客户(来源:拓荆科技招股书)

  拓荆科技的主要原材料采购项目为机械、电器、机电一体、气体输送系统等,主要供应商包括万机仪器、超科林微电子设备(上海)有限公司等。

  ▲ 拓荆科技 2018 年-2021 年前 9 个月前五大供应商(来源:拓荆科技招股书)

  从全球半导体薄膜沉积设备市场来看,美国应用材料(AMAT)、美国泛林半导体(Lam Research)、日本东京电子、荷兰先晶半导体(ASMI)等国际设备巨头占据主导地位。

  根据市场咨询公司 Gartner 的数据,东京电子和 ASMI 分别占据了全球 31% 和 29% 的 ALD 设备市场;应用材料占据了 85% 的 PVD 设备市场;应用材料、泛林半导体和东京电子则分别以 30%、21% 和 19% 的市场份额,占据了七成的全球 CVD 设备市场。

  相比这些国际半导体设备巨头,拓荆科技在运营规模和企业认知度上存在竞争劣势。不过在国内市场,拓荆科技的核心技术已经达到国际水平,其产品可以与海外巨头进行正面竞争,并拿下一定的市场份额。

  公开招标信息显示,2019-2020 年拓荆科技 PECVD 设备中标机台数量占长江存储、上海华力、无锡华虹和上海积塔四家下游企业招标总量的 16.65%。拓荆科技还获评中芯国际 2020 年度最佳合作厂商、华虹宏力 2020 年度优秀供应商等称号。

  相比同行业可比公司,拓荆科技 2018 年-2020 年毛利率低于可比公司平均值。随着其市场地位和议价能力的提升,拓荆科技 2021 年前九个月毛利率则高于可比公司平均值。

  不过需注意的是,拓荆科技是国内唯一一家产业化应用的集成电路 PECVD 设备厂商,和国内可比公司以及国际半导体设备巨头的业务模式上存在一定差距。

  截至 2021 年 9 月 30 日,拓荆科技的科研人员共 189 人,占员工总数的 44.06%,其中海外技术专家及高端技术人才十余人。

  根据招股书,拓荆科技的核心技术人员共有 7 人,包括董事长吕光泉、董事姜谦、总经理田晓明、副总经理周坚、副总经理张孝勇、资深技术总监叶五毛以及产品部总监宁建平。

  值得注意的是,除产品部总监宁建平为中国国籍外,拓荆科技的其余核心技术人员均为外国国籍。

  吕光泉为美国加州大学圣地亚哥分校博士,1994 年 8 月至 1996 年 4 月,他任美国科学基金会尖端电子材料研究中心电子材料副研究员;1996 年 4 月至 2007 年 7 月,吕光泉就职于美国诺发,历任高级工程师、PECVD 工艺研发部经理、项目主任兼工艺研发高级经理、ALD 技术高级经理;2007 年 7 月至 2014 年 8 月,他就职于德国爱思强公司。2014 年 9 月,吕光泉加入拓荆科技。

  姜谦曾在美国布兰迪斯大学获博士学位。1982 年 1 月至 1984 年 6 月,姜谦任麻省理工学院材料科学工程中心研究员。1984 年 7 月,姜谦于英特尔就职,历任工程师、研究员、项目经理、部门经理等多个职位。此后他在美国诺发、欣欣科技(沈阳)有限公司担任过副总裁和执行董事职务。2010 年 4 月至今,姜谦任职于拓荆科技。

  田晓明则有美国东北大学电子工程学硕士和新加坡南洋理工大学工商管理硕士学位。1991 年 9 月至 1994 年 12 月,田晓明任美国 Codi Semiconductor,Inc.工艺开发经理;1994 年 12 月至 2008 年 10 月,他就职于泛林半导体,担任过资深工艺工程师、香港牛魔王挂牌,资深工艺研发经理、资深大客户经理、中国区技术总监等职位;2008 年 10 月至 2018 年 2 月,田晓明为尼康精机(上海)有限公司资深副总裁;此后,田晓明就职于拓荆科技。

  张孝勇为美国马里兰大学化学工程博士,曾在美国诺发历任工艺开发工程师、资深工艺开发工程师、超低介电质工艺开发经理、资深重要客户经理等职位。2011 年 3 月,张孝勇加入拓荆科技。

  宁建平则为贵州大学硕士,正在攻读大连理工大学博士。2010 年 7 月,宁建平任职于拓荆科技子公司拓荆键科,现为拓荆科技产品部总监。

  国家集成电路基金、国投上海和中微公司是拓荆科技的前三大股东,分别持有 26.48%、18.23% 和 11.20% 的股份。

  此外,吕光泉、刘忆军、凌复华、吴飚、周仁、张先智、张孝勇,以及沈阳盛腾、芯鑫和等 11 个员工持股平台均为姜谦一致行动人。因此姜谦通过直接持股和一致行动人,控制了拓荆科技 15.192% 的股权。

  根据拓荆科技的公司章程规定,其董事会由 9 名董事组成,包括 3 名独立董事。其董事会决议的表决实行一人一票,且董事会做出决议必须经全体董事的过半数通过。

  在 6 名非独立董事中,国家集成电路基金有权提名 2 位,国投上海、中微公司分别有权提名 1 名,姜谦及其一致行动人有权提名 2 名。由于任何单一股东以及一致行动人提名的非独立董事均不足董事会席位的 1/2,拓荆科技不存在控股股东或实际控制人。

  拓荆科技作为我国薄膜沉积设备龙头,基本上代表了我国 PECVD 等产品的领先水平。本次 IPO,拓荆科技将获得更充裕的研发资金,并加大自身融资渠道,扩大运营规模。

  但值得注意的是,拓荆科技当前收入较为依赖 PECVD 设备,ALD、SACVD 设备处于市场开拓阶段,其国际巨头占据了绝大部分市场,其盈利有着不确定性。同时,拓荆科技核心技术人员以外来专家为主,在人才培养上或需要更大的投入。

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